电子半导体冲洗水电阻率18 MΩ*cm

张开发
• 2026/4/16 5:40:16 • 15 分钟阅读

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电子半导体冲洗水电阻率18 MΩ*cm
超纯水通常指的是电阻率能够达到18 MΩ*cm的水是既将水中的导电介质几乎完全去除又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。起初是美国科技界为研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水如今已广泛应用在生物、医药、汽车等领域。半导体行业中的超纯水又名UP水主要是半导体原材料生产加工、检测和半导体器件的制备用水。电子元器件对超纯水使用水质要求高。市场环境变化使得元器件尺寸缩小与精细度上升使得超纯水水质与水量的技术指标不断提升。超纯水制备主要包括以下三个阶段即初步吸附过滤阶段、反渗透净化阶段和树脂离子交换阶段。其中离子交换即是将水中的正离子与离子交换树脂中的H离子交换水中的负离子与离子交换树脂中的OH-离子交换从而达到纯化水的目的。具体说来主要有以下步骤1、原水可用自来水或普通蒸馏水或普通去离子水作原水。2、预处理系统原水箱、原水泵、杀菌剂、石英砂过滤器、活性炭过滤器、换热器、阻垢剂系统。3、双级反渗透系统保安过滤器、高压泵RO、反渗透系统。反渗透膜可滤除95%以上的电解质和大分子化合物包括胶体微粒和病毒等。由于绝大多数离子的去除使离子交换柱的使用寿命大大延长。4、EDI系统EDI的作用就是通过除去电解质包括弱电解质的过程将水的电阻率从0.051.0MΩ·cm提高到516MΩ·cm。5、抛光树脂无化学析出的核子级树脂去除纯水中残余的微量带电离子及弱电解质使水质达到18MΩ·cm以上。6、终端超滤能有效地去除水中的微粒、胶体、细菌、热源和有机物力。是整套系统最后的防火墙确保产出的高纯水不受二次污染。项目名称苏州万科环境工程制备超纯水项目工艺选择EDI出水抛光树脂工艺原理阴阳离子吸附制备超纯水项目概况科海思根据业主具体需求结合项目整体实际情况采用EDI超纯水抛光树脂工艺灵活运用离子交换技术利用两端电极高压使水中带电离子移动并配合离子交换树脂加速离子移动去除达到水纯化的目的。在这个工艺流程中经过离子交换出水水质的高低主要取决于离子交换树脂的质量和交换柱内水与树脂的交换效率。科海思采用超纯水抛光树脂MB-106UP它是由核子级强酸型阳离子Tulsimer ® T-46Li 及核子级强碱型阴离子 Tulsimer ® A-33OH 以1:2 体积比的剂量比例 , 预先混合的混床级离子交换树脂,专门提供给超纯水系统抛光用。它具有交换容量及优越的物理特性。整个项目单罐运行出水电阻率做到了18MΩ以上并且运行效果非常稳定。

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